MEMS加工

为成就您的产品,而努力

Work hard to make your product

切割·减薄
  • 研磨/减薄
    Si,GaAs,GaN,InP,玻璃,蓝宝石,陶瓷等;均匀性:±2um
  • 抛光
    Si,GaAs,GaN,InP,玻璃,蓝宝石,陶瓷等;表面粗糙度:1-50nm
  • 激光切割
    Si基MEMS产品,样品厚度:100-700μm, 切割宽度:≤10μm, 样品尺寸:8寸(向下兼容)
  • 刀片切割
    8英寸卡盘,不同材料选用不同刀片Si,Ge,玻璃,石英,陶瓷,电路板
  • 解理机
    GaAs,InP



案例展示


                       

                       PZT                                       电容器( AI )                              多层陶瓷电容器                               LED-GaAs









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2024-10-22

在科技飞速进步的今天,半导体产业作为信息技术的基石,其战略地位愈发凸显。然而,这一产业的蓬勃发展并非自然而然的结果,而是依赖于源源不断的高素...

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十万个为什么:揭秘“die”——单颗裸芯的别称
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2024-10-21

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    为了构建更紧密的几何形状和更薄的薄膜,我们需要在蚀刻速率与对其他操作参数的精确控制之间找到微妙的平衡,等离子体蚀刻技术因其高...

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激光打标与激光雕刻:如何做出明智选择?
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