微纳设计制造-苏州硅时代电子科技有限公司

产品与服务

MEMS加工

全套的MEMS加工工艺服务—可实现4/6/8英寸以下mems芯片代加工，拥有光刻、离子注入机、CVD、镀膜、刻蚀、晶圆键合、划片、快速退火等芯片制造工艺。

特殊工艺开发

基于MEMS加工方面多年的经验积累——可完美实现客户所提要求，并提供定制化的特殊工艺开发，形成工艺建议和成套解决方案。

高效服务

专业化的MEMS代工服务—在保证工艺质量的前提下，可提供实验加急服务，可大大节约客户等待时间，及时获得实验结果。

测试服务

强大的资源优势—提供更多的测试可能，针对客户特殊的测试需求，实现定制化测试方案设计，设备资源整合以及分析测试结果报告。

快速制版

从瑞典、日本、德国等国引进掩模版直写光刻制作系统及检查测量设备，强大的生产能力可实现三天交付，为客户提供集掩模版设计、研发、制作为一体的专业服务。

关于我们

苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），位于国内最大的MEMS产业集聚区——苏州纳米城。利用MEMS领域近20年的技术积累，在MEMS传感器、生物MEMS、光学MEMS以及射频MEMS方面都拥有大量的设计和工艺经验。
基于成熟的设计及工艺团队，苏州硅时代面向MEMS领域，提供全方位的技术服务。可提供MEMS芯片定制设计开发、集成电路芯片设计、MEMS芯片工艺验证、MEMS芯片小批量试制、MEMS芯片中试化量产、MEMS芯片封装方案设计等系统解决方案，也提供MEMS设计、加工、测试等单步或多步工艺实验开发。

新闻

快速退火工艺（二）

2023-11-17

卤素灯管退火（Halogen Lamp Annealing）是一种用灯管作为热源的退火方式，其特点如下：高温：卤素灯管退火的温度可以达到1300摄氏度以上，可以快...

11.17

2023

快速退火工艺（一）

快速热退火是用各种热辐照源，直接照射在样品表面上，迅速将样品加热至700~1200℃左右...

10.16

2023

离子镀膜

离子镀是一种在真空环境中，利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化，沉积在产品表面形成...

10.13

2023

常规ICP刻蚀的操作流程

（一）装片：1，在Pump 界面点击左边Pump 图标下Stop，切换至Vent ，120s 后打开...

10.09

2023

分子束外延的技术难点

分子束外延是50年代用真空蒸发技术制备半导体薄膜材料发展而来的。随着超高真空技术的...

10.07

2023

离子注入的阻滞机制

当离子轰击进入硅衬底后，与晶格原子碰撞将逐渐失去能量，最后停留在硅衬底内。有两种...

09.26

2023

MEMS开关

MEMS器件在射频比如无线通信上有很好的应用。RF MEMS谐振器和诱导器品质因子...

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