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2025-12-26
3D NAND 因堆叠层数激增,晶圆中心到边缘的膜层厚度差异可达 20% 以上,为缺陷埋下隐患。最常见的剥落缺陷,根源在于膜层应力与附着力失衡:沉积...
2026-01-23
洗边本质是通过消除边缘工艺偏差,保障晶圆全局的工艺一致性。匀胶时,晶圆在高速旋转下,光刻胶受离心力作用向边缘扩散,但受表面张力、晶圆边缘形貌...
2025-07-21
在MEMS器件的制造流程中,牺牲层去除工艺始终是决定器件良率与可靠性的关键环节。这一过程的核心挑战在于:如何在释放可动微结构的同时,避免因机...
2025-08-22
1.现有工艺复用优先原则 2,新工艺开发的成本-风险模型 1.腐蚀液配方设计三原则 原则2——工艺窗口宽泛化:±2℃时腐蚀速率变化<5%;HCl体系pH...