MEMS加工

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光刻
  • 接触式光刻
    最小图形尺寸:1μm,套刻精度:±0.5μm
  • 步进式光刻
    投影比例1:5,最小图形尺寸:0.35μm 套刻精度≤0.15μm(X,Y),曝光范围<22.5*22.5mm
  • 电子束光刻
    最小图形尺寸:10nm,套刻精度:40nm 曝光范围<直径75mm
  • 双面对准光刻
    最小图形尺寸:1μm,正面套刻精度:±0.5μm 背面套刻精度:±0.5μm
  • 匀胶/显影
    正胶:50nm~20μm,负胶:50~400nm
  • 喷胶
    单次厚度<2μm
  • 热板/烘箱
    热板温度<180℃,烘箱温度<350℃




案例展示


                                    

                 纳米线@PMMA CD 8nm                二维光栅 with CD 50nm                  变直径纳米盘 误差±5nm             Φ100um 光波导 线宽700nm








MEMS设计微流控芯片
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2022-07-15

微流控芯片我们常见的特点就是可以多种单元技术在整体可控的微小平台上灵活组合,规模集成。MEMS设计微流控芯片是一种在微纳米尺度空间中对流体进...

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增材制造属于微纳制造吗?
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2022-07-06

增材制造技术,通俗来说就是3d打印,是一种三维实体快速自由成形制造的新技术。那它属于微纳制造吗?它结合了计算机图形处理,数字化的信息与控制,激...

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飞秒激光微纳制造技术
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2022-06-28

飞秒激光微纳加工制造技术是以微电子,微光学,微机械为核心的,集现代光学,电子学,材料学,激光技术,精密机械,计算机技术等多门技术于一体的,是...

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微纳加工制造技术的未来发展趋势
微纳加工制造技术的未来发展趋势

2022-06-21

微纳加工制造作为新兴行业,具有很好的发展前景。它具体是指尺度为毫米,甚至是纳米量级的零件,以及由这些零件构成的部件或系统的设计、加工、组装、...

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