MEMS加工

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光刻
  • 接触式光刻
    最小图形尺寸:1μm,套刻精度:±0.5μm
  • 步进式光刻
    投影比例1:5,最小图形尺寸:0.35μm 套刻精度≤0.15μm(X,Y),曝光范围<22.5*22.5mm
  • 电子束光刻
    最小图形尺寸:10nm,套刻精度:40nm 曝光范围<直径75mm
  • 双面对准光刻
    最小图形尺寸:1μm,正面套刻精度:±0.5μm 背面套刻精度:±0.5μm
  • 匀胶/显影
    正胶:50nm~20μm,负胶:50~400nm
  • 喷胶
    单次厚度<2μm
  • 热板/烘箱
    热板温度<180℃,烘箱温度<350℃




案例展示


                                    

                 纳米线@PMMA CD 8nm                二维光栅 with CD 50nm                  变直径纳米盘 误差±5nm             Φ100um 光波导 线宽700nm








微纳加工中晶圆的基本原料是什么?
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2023-02-01

微纳加工中的硅从石英沙精练出来,对硅元素加以纯化便晶圆,它的纯度可以达到百分之九十九,接下来是将些纯硅制成硅晶棒,成为制造积体电路的石英半导...

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微纳技术制造的未来发展与趋势
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2022-12-15

制造业的发展,目前对加工精度的的要求越来越高,微纳制造伴随着应运而生。截至到目前为止,微纳技术在国防军工及民用产品已经得到广泛应用,特别体现...

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MEMS设计微流控芯片
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2022-07-15

微流控芯片我们常见的特点就是可以多种单元技术在整体可控的微小平台上灵活组合,规模集成。MEMS设计微流控芯片是一种在微纳米尺度空间中对流体进...

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增材制造属于微纳制造吗?
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2022-07-06

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