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电镀
  • 晶圆级电镀
    Au,Cu,Ni,Sn
  • LIGA微细加工
    (1)可制造较大高宽比结构;(2) 可选各种材料;(3)可制作任意截面形状图形结构;(4) 制造成本低
  • 叉指电极:
    提供石英、陶瓷、硅、AlN、塑料等多种衬底的叉指电极测试片,最小线宽1um

案例展示


                            

             Si通孔填充                                   Cu Plating Process                         RF MEMS Plating Process                             TSV及线路电镀







晶边刻蚀工艺详解
晶边刻蚀工艺详解

2025-12-26

3D NAND 因堆叠层数激增,晶圆中心到边缘的膜层厚度差异可达 20% 以上,为缺陷埋下隐患。最常见的剥落缺陷,根源在于膜层应力与附着力失衡:沉积...

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为什么匀胶后不洗边良率直接跌20%?
为什么匀胶后不洗边良率直接跌20%?

2026-01-23

洗边本质是通过消除边缘工艺偏差,保障晶圆全局的工艺一致性。匀胶时,晶圆在高速旋转下,光刻胶受离心力作用向边缘扩散,但受表面张力、晶圆边缘形貌...

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MEMS牺牲层去除技术详解
MEMS牺牲层去除技术详解

2025-07-21

在MEMS器件的制造流程中,牺牲层去除工艺始终是决定器件良率与可靠性的关键环节。这一过程的核心挑战在于:如何在释放可动微结构的同时,避免因机...

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湿法腐蚀工艺开发的过程中需要注意哪些问题?
湿法腐蚀工艺开发的过程中需要注意哪些问题?

2025-08-22

1.现有工艺复用优先原则 2,新工艺开发的成本-风险模型 1.腐蚀液配方设计三原则 原则2——工艺窗口宽泛化:±2℃时腐蚀速率变化<5%;HCl体系pH...

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