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激光直写的应用领域
点击量：543 日期：2023-08-29 编辑：硅时代
激光直写光刻(laser direct write lithography，LDWL)作为一种无掩模光刻技术，是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的图形。
无掩模光刻技术,即直接写入技术,主要有电子束直写和激光直写两种。这种光刻技术无需掩模制作、图形光刻转移、套刻、多次蚀刻等过程,减少了误差来源,提高了器件的制作效率与精度。另外，直写技术因为无需掩模制作，所以节省了掩模制作的费用。掩模成本在整个光刻成本中所占的份额是比较大的，就目前形势来看，掩模的价格是呈直线上升态势。由于掩模版价格日益高涨，开发无掩模的光刻技术成为一种潮流，它是降低掩模不断飞升的一个潜在解决方案，是一种有前途的光刻技术。
而激光直写技术相对于电子束直写，由于更为廉价而得到发展。其工作机理和电子束直写机理类似。通过点曝光或连续曝光的方式，在感光层上直接产生图形。具体来说，就是利用聚焦的激光光束，由计算机控制声光调制器、平台或转台的运动，在光刻胶上进行曝光，产生预定图形，经过显影得到所需要的图像。
激光直写曝光机市场在近年来呈现出快速增长的趋势。主要原因是随着电子信息技术的不断发展，对高精度、高速度、高效率的生产设备需求不断增加，而激光直写曝光机正好满足了这些需求。
目前，激光直写曝光机市场主要分为两个领域：半导体制造和PCB制造。在半导体制造领域，激光直写曝光机主要用于芯片制造中的光刻工艺，具有高精度、高速度、高稳定性等优点，可以实现微米级别的曝光精度，因此在半导体制造领域市场需求较大。在PCB制造领域，激光直写曝光机主要用于制作高密度、高精度的电路板，可以实现高速度、高精度的曝光，因此在PCB制造领域市场需求也较大。
除了半导体制造和PCB制造领域，激光直写曝光机还可以应用于3D打印、光刻制造、微纳加工等领域，这些领域的市场需求也在逐渐增加。
