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MEMS加工工艺中,从上到毫米,再下到微米的微结构加工技术都可称之为MEMS工艺制造,其在半导体和微电子工艺基础上发展而来,以光刻,镀膜,刻蚀,外延,氧化,溅射等许多基本的工艺制造复杂立体的三维微加工技术。与传统机械系统相比,不仅体现在很小的体积方面,其在力学,运动学,材料特性等方面都有巨大差异!?
图1.1 MEMS工艺制造图
但无论哪种微小原件都离不开光刻,刻蚀,镀膜三大方面,就是在一个或多个循环的基础上形成我们想要得到的元器件,在这个过程中又以光刻技术最为重要,所有的MEMS工艺都离不开光刻。光刻的好坏直接影响后续的镀膜刻蚀等工艺成败。因此在光刻过程中尤其注意图形分辨率以及套刻精度等方面的影响。
图1.2 光刻流程示意图