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  • lift-off工艺中“毛刺”的产生和改善措施
    lift-off工艺中“毛刺”的产生和改善措施

    2023-07-25

    在材料、微电子等研究课题中,制作高品质的电极是准确反映材料或者器件本身性能的前提条件,为此我们需要制作一个高品质的电极。在此,光刻中剥离(li...

  • ICP刻蚀的基本要求
    ICP刻蚀的基本要求

    2023-07-24

    (1)负载效应 刻蚀中还存在负载效应,即发生刻蚀速率变慢的情况。分为宏观负载效应和微观负载效应。刻蚀面积很大时,因为气体传输受限和刻蚀气体耗尽...

  • ALD原子层沉积技术
    ALD原子层沉积技术

    2023-07-24

    原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在...

  • 干涉光刻
    干涉光刻

    2023-07-24

    干涉光刻又叫全息光刻,是一种特殊的光刻手段,其特点是可以通过简单的设备即可获得百纳米周期性结构。下面我们简单介绍什么是干涉光刻、干涉光刻的一...

  • 微纳加工中EMI溅射镀膜的特点
    微纳加工中EMI溅射镀膜的特点

    2023-02-21

    微纳加工中的EMI:是电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象。它有以下几个特点: A、如果国内拥有自主知识产权的话,价格相比较更低。 B、更加环保...

  • 微纳加工中晶圆的基本原料是什么?
    微纳加工中晶圆的基本原料是什么?

    2023-02-01

    微纳加工中的硅从石英沙精练出来,对硅元素加以纯化便晶圆,它的纯度可以达到百分之九十九,接下来是将些纯硅制成硅晶棒,成为制造积体电路的石英半导...

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