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新闻
News
2023-09-01
EUV与现有光刻技术的主要区别，在于极紫外投影光刻系统使用了反射式掩模。反射式掩模采用坚固的背支撑结构．可以有效地防止由装校应力以及热应力产...
2023-08-30
临床医学全面走向个性化医疗诊疗是当今医学发展的一大方向，精准的体外诊断技术是正确诊疗的基本保证。而体外诊断基本主要是基于体液（血液，尿液，唾...
2023-08-30
光刻机的工作过程是这样的：逐一曝光完硅片上所有的场（field），亦即分步，然后更换硅片，直至曝光完所有的硅片；当对硅片进行工艺处理结束后，更换掩...
2023-08-29
激光直写光刻(laser direct write lithography，LDWL)作为一种无掩模光刻技术，是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影...
