公司新闻 - 苏州硅时代_微纳加工|MEMS加工|MEMS代工|器件封装|MEMS一站式解决专家

等离子体刻蚀面临的挑战
2023-08-21

近几十年来，等离子刻蚀技术已取得了长足发展。利用等离子刻蚀技术，人们得以准确地雕刻器件结构，从而为晶体管尺寸的缩小以及性能的提升提供了保障。...
离子注入与传统热扩散工艺区别
2023-08-18

离子注入工艺是集成电路制造的主要工艺之一，它是指将离子束加速到一定能量（一般在keV 至Mev 量级范围内)，然后注入固体材料表层内，以改变材料表层...
电镀有几种
2023-08-18

1、五金电镀分为常规五金包括铜、镍、硌；高级五金包括金、银；贵族五金包括金刚石、砖石。分别有挂镀、滚镀、龙门镀，金、银一般是以首饰挂镀为主，...
双重曝光 Double Exposure (DE)
2023-08-17

双重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。两次曝光是在同样的光刻胶上进行的，但使用不同的掩模版。双重曝光工...
刻蚀剖面 Etch Cross-section
2023-08-17

刻蚀剖面指的是被刻蚀图形的侧壁形状。有两种基本的刻蚀剖面：各向同性和各向异性刻蚀剖面。各向同性的刻蚀剖面是在所有方向上（横向和纵向）以相同的...
等离子刻蚀的应用案例
2023-08-16

等离子刻蚀主要应用在微电子制作工艺中，所有主要的处理对象是硅，用于精确图形转移。此外其还广泛应用于等离子刻蚀平板、薄膜刻蚀以及纤维刻蚀中。 1...

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