公司新闻 - 微纳设计制造-苏州硅时代电子科技有限公司

各类型光刻技术的特点
2023-08-01

一、光刻技术：从接触式到接近式　　接触式光刻技术良率低、成本高：接触式光刻技术出现于20世纪60年代，是小规模集成电路时期最主要的光刻技术。接触...
电子束蒸发镀膜
2023-08-01

一、电子束蒸发镀膜简述：电子束蒸发镀膜（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种，与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合...
电子束光刻曝光剂量
2023-07-31

电子束光刻是一个相当复杂的过程，其曝光过程中涉及到电子束与物质的作用，这部分我们将在后续的过程中介绍，这里我们将介绍一下电子束光刻的曝光工艺...
磁控靶溅射沉积率的影响因素
2023-07-31

溅射沉积率是表征成膜速度的参数，其沉积率高低除了与工作气体的种类与压力、靶材种类与“溅射刻蚀区“的面积大小、靶面温度与靶面磁场强度、靶源与基...
电子束光刻充电效应
2023-07-28

当我们使用电子束光刻做pattern时，有时候会发现在一些特殊情况下，无法获得完美的图形（图形变形、断线等），这种情况极有可能是因为电子束光刻的充电...
LIGA电铸技术
2023-07-26

我们知道，在微纳米技术的发展中MEMS一直是一个重要的应用方向，MEMS技术在尺度上的特点是横跨1um到1mm尺度且结构复杂，除了常规我们使用的...