公司新闻 - 微纳设计制造-苏州硅时代电子科技有限公司

直写光刻在掩膜版制造过程中的应用
2023-08-14

掩膜版的生产主要包括以下几个流程：图形光刻，显影，蚀刻，脱膜，清洗。其中，图形光刻是通过光刻机进行激光光束直写，以完成图形曝光，掩膜版制造都...
掩膜板的制造和管理
2023-08-14

掩膜板的基材一般为熔融石英（quartz），这种材料对深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光学透射，而且具有非常低的温度膨...
最佳曝光剂量的确定
2023-08-11

曝光剂量和曝光时间之间的换算因子为了获得根据光刻胶技术数据表中给出的推荐曝光剂量确定的正确地曝光时间，必须知道以下内容: · 曝光...
紫外曝光的光反应过程
2023-08-11

曝光：在光刻胶膜中发生的化学过程导致其在显影液中溶解度的增加(正胶)或减少(负胶)，从而可以产生出特定结构光刻胶膜。基于DNQ-基光引发剂的正胶...
通用去胶方案
2023-08-10

通用去除剂在去胶发生困难的情况下（例如在密集的等离子蚀刻或溅射之后），超声或兆声清洗会对去除光刻胶带来很大的帮助。但是，在此过程中必须保护衬...
蚀刻工艺的精确计时
2023-08-10

对于更紧密的几何形状和更薄的薄膜，需要在蚀刻速率与对其他操作参数的良好控制之间取得平衡。 “随着设计规则的缩小，许多蚀刻工艺正在转向非常快速的...