公司新闻 - 微纳设计制造-苏州硅时代电子科技有限公司

电镀有几种
2023-08-18

1、五金电镀分为常规五金包括铜、镍、硌；高级五金包括金、银；贵族五金包括金刚石、砖石。分别有挂镀、滚镀、龙门镀，金、银一般是以首饰挂镀为主，...
双重曝光 Double Exposure (DE)
2023-08-17

双重曝光(Double Exposure, DE)是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。两次曝光是在同样的光刻胶上进行的，但使用不同的掩模版。双重曝光工...
刻蚀剖面 Etch Cross-section
2023-08-17

刻蚀剖面指的是被刻蚀图形的侧壁形状。有两种基本的刻蚀剖面：各向同性和各向异性刻蚀剖面。各向同性的刻蚀剖面是在所有方向上（横向和纵向）以相同的...
等离子刻蚀的应用案例
2023-08-16

等离子刻蚀主要应用在微电子制作工艺中，所有主要的处理对象是硅，用于精确图形转移。此外其还广泛应用于等离子刻蚀平板、薄膜刻蚀以及纤维刻蚀中。 1...
全球刻蚀设备市场
2023-08-15

目前，全球刻蚀机设备的参与者相对较少，行业整体处于寡头垄断格局。主要的参与者包括美国的Lam Research（泛林半导体）、AMAT（应用材料）、日...
C4凸点技术
2023-08-15

最早的FC晶圆C4凸点制造技术是IBM公司开发的蒸镀工艺，目前最常用的方法是电化学沉积或电镀工艺。芯片凸点的蒸镀工艺流程如下：将钼掩模板对中至...