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化学镀镍的工艺特点
2023-09-13

化学镀镍技术是采用金属盐和还原剂,在材料表面上发生自催化反应获得镀层的方法。到目前为止，化学镀镍是国外发展最快的表面处理工艺之一，且应用范围也...
湿法刻蚀工艺
2023-09-12

干法刻蚀（Dry Etching）是使用气体刻蚀介质。常用的干法刻蚀方法包括物理刻蚀（如离子束刻蚀）和化学气相刻蚀（如等离子体刻蚀）等。与干法蚀刻相...
EUV技术对光源的要求
2023-09-11

开发EUV光源面临的最大挑战在于。如何在提高EUV光源瓦数的同时，降低等离子气氛中微粒、高速粒子和其它污染物，否则光源将会快速恶化。EUV光...
极紫外光刻技术
2023-09-08

对于光刻机而言，最核心的技术就是光源，光刻机按光源技术进步次序可分为紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV）三大类。极紫外光刻...
磁控溅射镀膜粘附力不好如何解决？
2023-09-07

磁控溅射（Magnetron Sputtering）是一种常见的物理气相沉积 (PVD) 工艺，是制造半导体、磁盘驱动器和光学膜层的主要薄膜沉积方法。磁控溅射具有...
MEMS技术的加工工艺
2023-09-06

（一）硅表面微机械加工技术美国加州大学Berkeley分校的Sensor and Actuator小组首先完成了三层多晶硅表面微机械加工工艺，确立了硅表面微加工工艺...